Основные характеристики печи химического осаждения из паровой фазы

Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) — это разновидность химической технологии, в которой в основном используется одно или несколько газообразных соединений или элементов, содержащих тонкопленочные элементы, для получения тонкой пленки посредством химической реакции на поверхности подложки.Печь химического осаждения из газовой фазы — это новая технология получения неорганических материалов, разработанная в последние десятилетия.Химическое осаждение из паровой фазы широко используется для очистки веществ, разработки новых кристаллов и осаждения различных монокристаллических, поликристаллических или стеклообразных неорганических пленочных материалов.

Основные характеристики печи химического осаждения из паровой фазы:

1) При средней или высокой температуре твердый материал осаждается на матрице за счет газофазной химической реакции между исходными соединениями в газообразном состоянии.

2) Может наноситься в условиях атмосферного давления или вакуума (осаждение при отрицательном давлении, обычно качество пленки вакуумного напыления лучше).

3) Использование плазменных и лазерных технологий может значительно ускорить химическую реакцию, так что осаждение можно будет проводить при более низких температурах.

4) Химический состав покрытия может изменяться с изменением состава газовой фазы для получения градиентных отложений или смешанных покрытий.

5) Можно контролировать плотность и чистоту покрытия.

6) Хорошо оберните детали покрытия.Может наноситься на матрицу сложной формы, а также на зернистые материалы.Подходит для покрытия различных сложных форм заготовок.Благодаря хорошим характеристикам покрытия, его можно покрывать канавкой, канавкой, отверстием и даже заготовкой с глухим отверстием.

7) Осадочный слой обычно имеет столбчатую кристаллическую структуру и не устойчив к изгибу, но его структура может быть улучшена за счет возмущения газовой фазы химических реакций различными способами.

8) Покрытия из различных металлов, сплавов, керамики и соединений могут быть образованы посредством различных реакций.