Печа от осаждения пара

Печа от осаждения пара

Печь для осаждения пара может использоваться для нагрева и испарения металлических галогенидов, металлических органических соединений, углеводородов и других источников реакции под удельным давлением, чтобы генерировать твердый осадок на поверхности целевого материала. Он также используется для химического отложения паров композитных материалов с углеводородным газом (например, C3H8 и т. Д.) В качестве источника углерода, таких как композитные материалы C/C, композитные материалы SIC, обработка CVD, CVI.

Функции:

1) При средней или высокой температуре твердый материал образуется и осаждается на матрице посредством химической реакции газовой фазы между начальными соединениями в газовой фазе.

2) Он может быть осажден в атмосферном давлении или условиях вакуума (отрицательное давление », как правило, качество пленки вакуумного осаждения лучше).

3) Использование технологии плазмы и лазерной помощи может значительно способствовать химической реакции, так что осаждение может быть выполнено при более низкой температуре.

4) Химический состав покрытия может измениться при изменении газовой фазовой композиции, чтобы получить градиентный осадок или смешанное покрытие.

5) может контролировать плотность покрытия и чистоту покрытия.

6) Вокруг покрытых деталей. Он может быть покрыт сложной матрицей формы и гранулированным материалом. Подходит для покрытия всех видов сложных форм заготовки. Из -за хорошего характеристик покрытия он может быть покрыт канавками, канавками, отверстиями и даже слепыми отверстиями заготовки.

7) Нанесенный слой обычно имеет столбчатую кристаллическую структуру и не устойчив к изгибе, но его структура может быть улучшена путем возмущения газовой фазы химической реакции с помощью различных методов.

8) может образовывать различные металлические, сплавы, керамические и составные покрытия с помощью различных реакций.