Основным оборудованием, используемым в технологии CVD, является печь химического осаждения из паровой фазы, которая в основном используется в различных экспериментах CVD, а также может использоваться в вакуумном спекании, спекании с защитой от вакуумной атмосферы, подготовке наноматериалов, подготовке материала батареи и других областях исследований.Химика

Спекание горячим изостатическим прессованием относится к процессу спекания и уплотнения керамического порошка, заготовки или предварительно обожженного тела за счет комбинированного воздействия высокой температуры и изотропного газа высокого давления.Подходит для изготовления изделий сложной формы, позволяет повысить плотность и производительность

Высокотемпературное оборудование печи графитационной очистки называется высокотемпературной печью графитационной очистки.Материалы, которые необходимо графитировать, также включают углеродные нанотрубки, ядерный графит, природный графит и искусственный графит.Графитизация относится к беспорядочно нерегулярным

Печь для очистки графитового порошка состоит из верхней крышки, выпускного отверстия, слоя контроля температуры, изоляционного слоя, нагревателя, отверстия для подачи воздуха, трехфазного электрода, который характеризуется внешней формой печи для очистки графитового порошка.

Печь для порошковой металлургии для спекания представляет собой оборудование для термообработки, в котором в качестве сырья используется металлический порошок (или смесь металлического порошка и неметаллического порошка) для изготовления деталей из металла или сплава путем формования и спекания.В основном используется для прессования и формования железной основы, медной основы и других материалов.