 |
| Количество: | |
|---|---|
Печь для осаждения из паровой фазы
Печь для осаждения из паровой фазы может использоваться для нагрева и испарения галогенидов металлов, металлических органических соединений, углеводородов и других источников реакции под определенным давлением с образованием твердого осадка на поверхности целевого материала.Он также используется для химического осаждения из паровой фазы композитных материалов с углеводородным газом (таким как C3H8 и т. д.) в качестве источника углерода, например, композитных материалов C/C, композитных материалов SiC, обработки CVD, CVI.
Функции:
1) При средней или высокой температуре твердый материал образуется и осаждается на матрице в результате химической реакции в газовой фазе между исходными соединениями в газовой фазе.
2) Его можно наносить при атмосферном давлении или в условиях вакуума (осаждение при отрицательном давлении, обычно качество пленки вакуумного осаждения лучше).
3) Использование плазменных и лазерных технологий может значительно ускорить химическую реакцию, так что осаждение можно будет проводить при более низкой температуре.
4) Химический состав покрытия может меняться при изменении состава газовой фазы с целью получения градиентного осадка или смешанного покрытия.
5) Можно контролировать плотность и чистоту покрытия.
6) вокруг плакированных деталей.Его можно наносить на матрицу сложной формы и гранулированный материал.Подходит для покрытия заготовок всех видов сложной формы.Благодаря хорошим характеристикам покрытия им можно покрывать канавки, канавки, отверстия и даже глухие отверстия заготовки.
7) Напыленный слой обычно имеет столбчатую кристаллическую структуру и не устойчив к изгибу, но его структуру можно улучшить путем газового возмущения химической реакции с помощью различных методов.
8) может образовывать различные покрытия из металлов, сплавов, керамики и соединений посредством различных реакций.
Печь для осаждения из паровой фазы
Печь для осаждения из паровой фазы может использоваться для нагрева и испарения галогенидов металлов, металлических органических соединений, углеводородов и других источников реакции под определенным давлением с образованием твердого осадка на поверхности целевого материала.Он также используется для химического осаждения из паровой фазы композитных материалов с углеводородным газом (таким как C3H8 и т. д.) в качестве источника углерода, например, композитных материалов C/C, композитных материалов SiC, обработки CVD, CVI.
Функции:
1) При средней или высокой температуре твердый материал образуется и осаждается на матрице в результате химической реакции в газовой фазе между исходными соединениями в газовой фазе.
2) Его можно наносить при атмосферном давлении или в условиях вакуума (осаждение при отрицательном давлении, обычно качество пленки вакуумного осаждения лучше).
3) Использование плазменных и лазерных технологий может значительно ускорить химическую реакцию, так что осаждение можно будет проводить при более низкой температуре.
4) Химический состав покрытия может меняться при изменении состава газовой фазы с целью получения градиентного осадка или смешанного покрытия.
5) Можно контролировать плотность и чистоту покрытия.
6) вокруг плакированных деталей.Его можно наносить на матрицу сложной формы и гранулированный материал.Подходит для покрытия заготовок всех видов сложной формы.Благодаря хорошим характеристикам покрытия им можно покрывать канавки, канавки, отверстия и даже глухие отверстия заготовки.
7) Напыленный слой обычно имеет столбчатую кристаллическую структуру и не устойчив к изгибу, но его структуру можно улучшить путем газового возмущения химической реакции с помощью различных методов.
8) может образовывать различные покрытия из металлов, сплавов, керамики и соединений посредством различных реакций.
