Основным оборудованием, используемым в технологии CVD, является печь химического осаждения из паровой фазы, которая в основном используется в различных экспериментах CVD, а также может использоваться в вакуумном спекании, спекании с защитой от вакуумной атмосферы, подготовке наноматериалов, подготовке материала батареи и других областях исследований.Химика

Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) — это разновидность химической технологии, в которой в основном используется одно или несколько газообразных соединений или элементов, содержащих тонкопленочные элементы, для получения тонкой пленки посредством химической реакции на поверхности подложки.Печь химического осаждения из паровой фазы - это новая технология подготовки в